特許
J-GLOBAL ID:200903053824627217
対称的なスイッチング特性を有する磁気メモリセル
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
古谷 馨 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-019744
公開番号(公開出願番号):特開2001-267523
出願日: 2001年01月29日
公開日(公表日): 2001年09月28日
要約:
【要約】【課題】 対称的なスイッチング特性を有する磁気メモリセルを提供する。【解決手段】 本発明の磁気メモリセルは、センス層(52)と、センス層(52)にバリア層を介して結合されているリファレンス層(50)と、付加的なリファレンス層(54)と、この付加的なリファレンス層(54)が、付加的なリファレンス層(54)からの反磁界と結合磁界とのセットが、リファレンス層(50)からの反磁界と結合磁界とのセットと釣り合うように、センス層(52)にスペーサ層(60)を介して結合されていることと、からなることを特徴とする。
請求項(抜粋):
センス層(52)と、前記センス層(52)にバリア層を介して結合されているリファレンス層(50)と、付加的なリファレンス層(54)と、この付加的なリファレンス層(54)が、当該付加的なリファレンス層(54)からの反磁界と結合磁界とのセットが、前記リファレンス層(50)からの反磁界と結合磁界とのセットと釣り合うように、前記センス層(52)にスペーサ層(60)を介して結合されていることと、からなる磁気メモリセル。
IPC (5件):
H01L 27/105
, G11C 11/14
, G11C 11/15
, H01F 10/26
, H01L 43/08
FI (5件):
G11C 11/14 A
, G11C 11/15
, H01F 10/26
, H01L 43/08 Z
, H01L 27/10 447
引用特許:
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