特許

J-GLOBAL ID：200903053851337549

含銅塩化ニッケル溶液の脱銅電解方法

発明者： 杉田 泉 ,  西川 勲 ,  松木 茂喜 ,  家守 伸正
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (1件)： 押田 良輝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-295211
公開番号（公開出願番号）：特開2001-115288
出願日： 1999年10月18日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
要約：

【要約】【課題】 脱銅電解工程における電流効率の向上と、これによるランニングコストの低減を計ることのできる含銅塩化ニッケル溶液の脱銅電解方法を提供する。【解決手段】 主としてニッケルおよび銅を含有した硫化物、合金、スラジなどの原料を塩素で浸出し、該浸出液からその中に存在している銅イオンの少なくとも一部を電解採取法によって除去するニッケル塩素浸出法の脱銅電解方法において、脱銅電解槽1槽当たりの給液量、給液中の銅濃度および塩素浸出工程の酸化還元電位の少なくとも3つのパラメータから前記脱銅電解の電流効率を評価する式を予め得た後、前記脱銅電解槽1槽当たりの給液量および塩素浸出工程の酸化還元電位をある一定値となるように操業して、目標とする電流効率を得るために必要な給液中の銅濃度を前記電流効率評価式から求めて操業条件を変更することを特徴とするものであり、また前記電流効率評価式から求めた給液中の銅濃度となるように塩素浸出工程の含銅塩化ニッケル溶液とニッケル電解廃液の混合比を変更することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

主としてニッケルおよび銅を含有した硫化物、合金、スラジなどの原料を塩素で浸出し、該浸出液からその中に存在している銅イオンの少なくとも一部を電解採取法によって除去するニッケル塩素浸出法の脱銅電解方法において、脱銅電解槽1槽当たりの給液量、給液中の銅濃度および塩素浸出工程の酸化還元電位の少なくとも3つのパラメータから前記脱銅電解の電流効率評価する式を予め得た後、前記脱銅電解槽1槽当たりの給液量および塩素浸出工程の酸化還元電位をある一定値となるように操業して、目標とする電流効率を得るために必要な給液中の銅濃度を前記電流効率評価式から求めて操業条件を変更することを特徴とする含銅塩化ニッケル溶液の脱銅電解方法。

IPC (3件)：

C25C 1/12 ,  C25C 1/00 301 ,  C25C 1/08

FI (3件)：

C25C 1/12 ,  C25C 1/00 301 Z ,  C25C 1/08