特許

J-GLOBAL ID：200903053852538254

複合半透膜の製造方法

発明者： 高橋 世理哉 ,  藤井 能成 ,  植村 忠廣
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-053670
公開番号（公開出願番号）：特開平5-076740
出願日： 1992年03月12日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：

【要約】【目的】オゾン層を破壊することがなく、取扱い時に安全で、しかも回収が容易な高引火点の炭化水素系溶媒を用いて高い分離性能と高い透水量の逆浸透性能を有する複合半透膜を製造する。【構成】多孔性高分子膜状での多官能性アミンと多官能性アシルハライドの界面重縮合によって複合半透膜を製造するに際し、多官能性アシルハライドの溶媒として引火点が20°C以上の炭化水素系溶媒を用い、反応終了後に該溶媒を蒸発させる際に膜面での風速2〜20m/sec、温度10〜80°C、絶対湿度が乾燥気体1kgあたり1g以上の水分量の気体を吹きつける。

請求項（抜粋）：

多孔性支持膜上に、多官能性アミンと多官能性アシルハライドを界面重縮合させて得られる、架橋ポリアミド系超薄膜層を設けてなる複合半透膜を製造するに際して、引火点が10°C以上の炭化水素系溶媒を多官能性アシルハライドの溶媒として用い、反応終了後に架橋ポリアミド系超薄膜の表面に、膜面での風速が2〜20m/sec、温度が10〜80°Cの範囲でしかも使用する炭化水素系溶媒の引火点よりも低温であり、絶対湿度が乾燥気体1kgあたり1g以上の水分量の気体を吹き付けることによって、残存した炭化水素系溶媒を蒸発させることを特徴とする複合半透膜の製造方法。

IPC (2件)：

B01D 71/82 510 ,  C08G 69/26 NSD

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-179111
  
• 特開昭59-059222
  
• 特開昭60-244303