特許
J-GLOBAL ID:200903053857997338
電子線回折用試料および電子顕微鏡試料の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-211048
公開番号(公開出願番号):特開2002-022627
出願日: 2000年07月12日
公開日(公表日): 2002年01月23日
要約:
【要約】【課題】 六方晶の場合は従来の閃亜鉛鉱とは異なる結晶方位を有しており、従来のように、リングに対して45°の角度とした場合には、等厚干渉縞は観察できない。【解決手段】 電子線の入射方向をM面あるいはA面に垂直方向とする事により、六方晶や斜方晶においても等厚干渉縞を用いたTEM観察用試料を得る。
請求項(抜粋):
(11-20)面と(11-20)面で構成される半導体結晶において、前記(11-20)面で挟まれた(1-100)面が電子線の入射方向と垂直となるように設置することを特徴とする電子線回折用試料。
IPC (5件):
G01N 1/28
, G01N 1/32
, G01N 23/02
, G01N 23/20
, H01J 37/20
FI (5件):
G01N 1/32 B
, G01N 23/02
, G01N 23/20
, H01J 37/20 Z
, G01N 1/28 G
Fターム (12件):
2G001AA03
, 2G001BA11
, 2G001BA18
, 2G001CA03
, 2G001KA01
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 2G001NA21
, 2G001RA01
, 2G001RA20
, 5C001BB07
, 5C001CC01
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