特許
J-GLOBAL ID：200903053858814628
表面処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-231101
公開番号（公開出願番号）：特開平6-081148
出願日： 1992年08月31日
公開日（公表日）： 1994年03月22日
要約：
【要約】【目的】 寸法精度の高い薄膜や表面改質層を形成できる小型の表面処理装置を提供することを目的とする。【構成】 連続被処理材11を送り出す送り出しドラム12と、この送り出しドラム12から所定の距離だけ離れ、かつ、前記連続被処理材11を巻き取る巻き取りドラム13との中間に位置する移動中の前記連続被処理材11に表面処理手段14で薄膜形成または表面改質する表面処理装置において、前記送り出しドラム12と前記巻き取りドラム13との間に配置し、かつ、同一方向に回動する少なくとも1台の中間ドラム15に前記連続被処理材11を少なくとも一回巻き付けたことを特徴とする表面処理装置。
請求項（抜粋）：
連続被処理材を送り出す送り出しドラムと、この送り出しドラムから所定の距離だけ離れ、かつ、前記連続被処理材を巻き取る巻き取りドラムとの中間に位置する移動中の前記連続被処理材に表面処理手段で薄膜形成または表面改質する表面処理装置において、前記送り出しドラムと前記巻き取りドラムとの間に配置し、かつ、同一方向に回動する少なくとも1台の中間ドラムに前記連続被処理材を少なくとも一回巻き付けたことを特徴とする表面処理装置。
IPC (2件)：
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