特許

J-GLOBAL ID：200903053867172213

高粘性物質の連続処理装置

発明者： 吉川 尚志 ,  神崎 淳光 ,  井原 一夫 ,  中元 英和
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立テクノエンジニアリング株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-027802
公開番号（公開出願番号）：特開平5-222201
出願日： 1992年02月14日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：

【要約】【目的】高滞留、かつ、高せん断型の連続処理装置を提供することを目的とする。【構成】同心2軸の形状をとり、中空軸体11内部に回転体12を設け、これらの相対する全面にせん断面を持ち、処理液の張り込み量を多くとれるようにした構造。

請求項（抜粋）：

円筒状容器の中央部に、両端に軸を設け回転可能に支持した回転体と、該回転体の周囲を覆って、任意の隙間を保って自由に回転可能に配した中空軸体とを設け、該中空軸体の周囲と円筒状容器との間に任意の隙間を設けてなることを特徴とする高粘性物質の連続処理装置。

IPC (2件)：

C08G 85/00 NVC ,  C08F 2/00 MDB