特許
J-GLOBAL ID:200903053877246282
Si3N4セラミックスとその製造用Si基組成物及びこれらの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 正緒
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-252056
公開番号(公開出願番号):特開2001-080967
出願日: 1999年09月06日
公開日(公表日): 2001年03月27日
要約:
【要約】【課題】 水中でのSi粉末の分散性と耐酸化性を改善し、微細で酸素量の少ないSi粉末と焼結助剤粉末が均一に分散した、Si3N4セラミックスの製造に適したスラリー状組成物、及びその安価な製造方法を提供する。【解決手段】 Si粉末と、焼結助剤と、全体に対して50〜90重量%の水と、Si粉末に対して0.05〜10重量%の表面コーティング剤を添加し、pH3〜8に調整して粉砕混合する。表面コーティング剤は、FeやGa等の3価の金属イオン又はBHL値10以下のポリシロキサン等を用いる。得られるスラリー状組成物を用いて、電気的、熱的且つ機械的に優れたSi3N4セラミックスを製造できる。
請求項(抜粋):
平均粒径が10μm以下で、表面酸素量が3重量%以下のSi粉末と、焼結助剤と、全体に対して50〜90重量%の水と、Si粉末に対して0.05〜10重量%の表面コーティング剤とを含み、pHが3〜8に調整されていることを特徴とするスラリー状のSi基組成物。
Fターム (35件):
4G001BA01
, 4G001BA03
, 4G001BA05
, 4G001BA06
, 4G001BA07
, 4G001BA08
, 4G001BA09
, 4G001BA10
, 4G001BA11
, 4G001BA62
, 4G001BA67
, 4G001BA69
, 4G001BA73
, 4G001BA77
, 4G001BA78
, 4G001BA81
, 4G001BA87
, 4G001BB01
, 4G001BB03
, 4G001BB05
, 4G001BB06
, 4G001BB07
, 4G001BB08
, 4G001BB09
, 4G001BB10
, 4G001BB11
, 4G001BB32
, 4G001BC02
, 4G001BC11
, 4G001BC13
, 4G001BC21
, 4G001BC45
, 4G001BC48
, 4G001BD03
, 4G001BD14
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