特許
J-GLOBAL ID：200903053892580377

分子化合物の製造方法

発明者：
天池 正登

天池 正登 について

, 
笹岡 誠二

笹岡 誠二 について


出願人/特許権者：
日本曹達株式会社

日本曹達株式会社 について


代理人 (1件)： 廣田 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-154894
公開番号（公開出願番号）：特開2000-344687
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
要約：
【要約】【課題】 ニーダ装置や造粒機を用いた、固体-固体反応による分子化合物の工業的な製造方法を提供すること。【解決手段】 1,1,2,2-テトラキス(4-ヒドロキシフェニル)エタン等の固体ホスト化合物と固体ゲスト化合物、又は固体ホスト化合物と液体ゲスト化合物を多軸型混練機等のニーダ装置を用いて混合及び/又は混練し、更に必要に応じて押出し造粒して分子化合物を製造する。
請求項（抜粋）：
固体ホスト化合物と固体ゲスト化合物、又は固体ホスト化合物と液体ゲスト化合物とをニーダ装置を用いて混合及び/又は混練することを特徴とする分子化合物の製造方法。
IPC (2件)：
C07B 61/00 ,  C07C 39/15
FI (3件)：
C07B 61/00 B ,  C07B 61/00 C ,  C07C 39/15
Fターム (9件)：
4H006AA02 ,  4H006AA05 ,  4H006AC93 ,  4H006BC10 ,  4H006BD20 ,  4H006BD80 ,  4H006BD81 ,  4H006FC52 ,  4H006FE13
引用特許：
審査官引用 (6件)
  • 特開昭61-030551
  • 特開昭62-120344
  • 特開昭62-263143
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