特許

J-GLOBAL ID：200903053894665884

陽性フォトレジスト製造用共重合体およびこれを含有する化学増幅型陽性フォトレジスト組成物

発明者： パーク ジョー-ヘオン ,  キム ジ-ホン ,  キム キ-ダエ ,  パーク スン-イ ,  キム セオン-ジュ
出願人/特許権者： クンホセオキュホアハクジュシクヘサ
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-096482
公開番号（公開出願番号）：特開平10-316720
出願日： 1998年04月08日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：

【要約】【課題】 クォータ-ミクロン以下のパターン形成を満たすとともに耐エッチング性を向上させる陽性フォトレジスト製造用共重合体およびこれを含有する化学増幅型陽性フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 反復単位が次の一般式(I)で示される重合体およびこの重合体と酸発生剤とを含有する化学増幅型陽性フォトレジスト組成物。【化1】(ここで、Rは水素原子またはアルキル基であり、k、m、nはそれぞれ反復単位を示す数で、0.1≦k/(m+n)≦0.5、0≦m/(k+n)≦0.5、かつ0.1≦n/(k+m)≦0.9である)。

請求項（抜粋）：

反復単位が次の一般式(I)で示され、ポリスチレン換算標準分子量が1000〜1,000,000である重合体。【化1】ここで、Rは水素原子またはアルキル基であり、k、m、nはそれぞれ反復単位を示す数で、0.1≦k/(m+n)≦0.5、0≦m/(k+n)≦0.5、かつ0.1≦n/(k+m)≦0.9である。

IPC (2件)：

C08F232/04 ,  G03F 7/039 601

FI (2件)：

C08F232/04 ,  G03F 7/039 601