特許
J-GLOBAL ID：200903053895644791
荷電ビーム描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-238667
公開番号（公開出願番号）：特開平7-094401
出願日： 1993年09月27日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】 対物レンズの光軸の倒れによる位置ずれを補正することができ、かつ任意の高さの偏向歪みを評価することができ、パターン精度の向上をはかり得る電子ビーム描画装置を提供することにある。【構成】 対物レンズの光軸の倒れによる位置ずれ及び任意高さの偏向歪みを評価する機能を備えた電子ビーム描画装置において、試料台12の一部に設けられた高さ方向の移動が可能なマーク台14と、電子ビームが照射される部分の高さを光学的に測定するZセンサ9と、マーク台14上のマークを電子ビームで走査してマーク位置を測定する機構とを具備し、電子ビームの偏向領域内の複数箇所に試料台12を移動させ、それぞれの箇所でマーク台14の高さを変えてマーク位置及びその時のマーク台の高さを測定して、基準高さに対する荷電ビームの偏向歪み量を求めることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
試料台に設けられた高さ方向の移動が可能なマーク台と、荷電ビームが照射される部分の高さを光学的に測定する手段と、前記マーク台上のマークと荷電ビームとを相対的に走査してマーク位置を測定する手段とを具備し、荷電ビームの偏向領域内の複数箇所に前記試料台を移動させ、それぞれの箇所で前記マーク台の高さを変えてマーク位置及びその時のマーク台の高さを測定して、基準高さに対する荷電ビームの偏向歪み量を求めることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 541 K
, H01L 21/30 541 D
