特許

J-GLOBAL ID：200903053916727650

露光方法及び該方法を使用するリソグラフィシステム

発明者： 入江 信行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-065975
公開番号（公開出願番号）：特開平10-261572
出願日： 1997年03月19日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：

【要約】【課題】 感光材料の塗布から露光までの時間にばらつきが生じても、高い解像度が得られる露光方法を提供する。【解決手段】 予め露光装置10を用いて、レジスト塗布から露光までの経過時間が異なる複数のウエハに対して所定の評価用マークの像を露光して、現像後に得られるレジストパターンの形状をアライメントセンサ17を介して計測することによって、レジスト塗布から露光までの経過時間による解像度の劣化を防止できるような露光量の補正量を求めておく。露光時には、レジストコータ20でのレジスト塗布から露光までの経過時間に応じて露光装置10における露光量を補正する。

請求項（抜粋）：

処理対象の基板上に感光材料を塗布した後、マスクパターンを通過した照明光で前記基板上の感光材料を露光することによって、前記基板上の感光材料に前記マスクパターンを転写する露光方法において、予め、評価用の基板上に前記感光材料を塗布してから評価用マークの露光を行うまでの経過時間の関数として前記感光材料に対する最適露光量を求めておき、前記処理対象の基板上に前記感光材料を塗布してから前記マスクパターンを転写するまでの実際の経過時間に応じて該感光材料に対する露光量を補正することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 D ,  G03F 7/20 521