特許
J-GLOBAL ID：200903053918403487
含窒素高分子化合物の固定化方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-317119
公開番号（公開出願番号）：特開平7-168356
出願日： 1993年12月16日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：
【要約】【目的】 簡便な操作で、光パーニングを可能とする含窒素高分子化合物の固定化法を提供する。【構成】 チオール基により表面修飾した固体表面をアクリル酸ニトロフェニルエステルまたはその誘導体により反応処理し、光パターニングを行い、ついで含窒素高分子化合物を反応させ、露光されていないマスク領域に固定化する。
請求項（抜粋）：
チオール基により表面修飾した固体表面をアクリル酸ニトロフェニルエステルまたはその誘導体により反応処理し、次いで含窒素高分子化合物を反応させて固定化することを特徴とする含窒素高分子化合物の固定化方法。
IPC (5件)：
G03F 7/027
, C07K 17/14
, C08G 69/48 NRH
, G03F 7/004 503
, G03F 7/038
