特許
J-GLOBAL ID:200903053918475054

光学素子成形用型

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三品 岩男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-100314
公開番号(公開出願番号):特開平9-286624
出願日: 1996年04月22日
公開日(公表日): 1997年11月04日
要約:
【要約】【課題】高強度で高精度な鏡面を得ることができ、しかも、成形素材との融着反応を起しにくい、光学素子の成形用型を提供する。【解決手段】型母材1がSiCの焼結体であり、型母材1の成形面上には、第1中間層2、第2中間層3、および、最上位層4が順に形成されており、第1中間層2は、SiC層であり、第2中間層3は、TiN、AlN、ZrN、TaN、TiAlNから選ばれた少なくとも一種の金属窒化物の層であり、最上位層4は、第2中間層3上に形成されたのち高真空下で再結晶したPt層となっている。
請求項(抜粋):
光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型において、型母材がSiCの焼結体であり、前記型母材の成形面上には、第1中間層、第2中間層、および、最上位層が順に形成されており、前記第1中間層は、SiC層であり、前記第2中間層は、TiN、AlN、ZrN、TaN、TiAlNから選ばれた少なくとも一種の金属窒化物の層であり、前記最上位層は、前記第2中間層上に形成されたのち高真空下で再結晶したPt層であることを特徴とする光学素子成形用型。
IPC (3件):
C03B 11/00 ,  C03B 11/08 ,  C03B 40/02
FI (4件):
C03B 11/00 N ,  C03B 11/00 Z ,  C03B 11/08 ,  C03B 40/02

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