特許
J-GLOBAL ID：200903053931678690
半導体ウェット装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-010850
公開番号（公開出願番号）：特開平6-224170
出願日： 1993年01月26日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：
【要約】【目的】 半導体基板に洗浄不十分部分や被エッチング膜のエッチング残り部分を生じさせないような半導体ウェット装置を提供する【構成】 洗浄エッチング室1に隣接して半導体基板回転室13が設けられている。該半導体基板回転室13には、洗浄エッチング室1から移送されている半導体基板2を保持し且つ保持した半導体基板2を水平方向へ所定量回転させる半導体基板回転手段が設けられている。洗浄エッチング室1と半導体基板回転室13との間には、洗浄エッチング室1において洗浄又はエッチングされた半導体基板2を半導体基板回転室13に移送すると共に、該半導体基板回転室13内で水平方向へ所定量回転した半導体基板2を洗浄エッチング室1に移送して載置台5に再度載置支持せしめる半導体基板移送手段12が設けられている。
請求項（抜粋）：
半導体基板を洗浄又はエッチングするための洗浄エッチング室と、該洗浄エッチング室内に回転可能に立設された支柱と、該支柱の上部に保持され水平方向へ延びる少なくとも3つのアーム部材と、各アーム部材の先端部に設けられ半導体基板を載置支持する載置台とを備えた半導体ウェット装置であって、上記洗浄エッチング室に隣接して設けられ上記洗浄エッチング室から移送されてくる半導体基板を保持して水平方向へ所定量回転させる半導体基板回転室と、上記洗浄エッチング室内で洗浄又はエッチングされた半導体基板を上記半導体基板回転室に移送すると共に半導体基板回転室内で水平方向へ所定量回転した半導体基板を上記洗浄エッチング室に移送し且つ上記載置台に載置支持させる半導体基板移送手段とを備えていることを特徴とする半導体ウェット装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/306
, H01L 21/68
