フォトレジスト用化合物およびフォトレジスト用樹脂組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鍬田充生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-135624
公開番号（公開出願番号）：特開2000-122295
出願日： 1999年05月17日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：

【要約】【課題】耐エッチング液性が高く、光照射により可溶化できるフォトレジスト用樹脂組成物により、微細なパターンを形成する。【解決手段】フォトレジスト用樹脂組成物は、下記式で表されるアダマンタン骨格を有する重合体と、光酸発生剤とで構成されている。【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基,R2,R3,R4は、同一又は異なって、水素原子,ハロゲン原子,アルキル基,ヒドロキシル基,ヒドロキシメチル基,カルボキシル基,酸により脱離してヒドロキシル基,ヒドロキシメチル基又はカルボキシル基を生成する官能基を示し、R2〜R4のうち少なくとも1つが前記官能基である。Xはエステル結合又はアミド結合を示し、mおよびnは0又は1を示す)

請求項（抜粋）：

下記式(1a)【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基,R2,R3,R4は、同一又は異なって、水素原子,ハロゲン原子,アルキル基,ニトロ基,アミノ基,N-置換アミノ基,ヒドロキシル基,ヒドロキシメチル基,カルボキシル基,又は酸により脱離してヒドロキシル基,ヒドロキシメチル基又はカルボキシル基を生成する官能基を示し、R2〜R4のうち少なくとも1つが前記官能基である。Xは連結基を示し、mおよびnはそれぞれ独立して0又は1を示す)で表されるフォトレジスト用化合物。

IPC (7件)：

G03F 7/039 601 , C08F 20/28 , C09D133/04 , G03F 7/027 502 , G03F 7/028 , H01L 21/027 , C07C 69/54

FI (7件)：

G03F 7/039 601 , C08F 20/28 , C09D133/04 , G03F 7/027 502 , G03F 7/028 , C07C 69/54 B , H01L 21/30 502 R

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭63-033350
特開平1-182303

審査官引用 (5件)

特開昭63-033350
特開昭63-033350
特開平1-182303

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