特許
J-GLOBAL ID:200903053936949799
光学薄膜製造装置と光学薄膜製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐野 静夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-331253
公開番号(公開出願番号):特開2001-152336
出願日: 1999年11月22日
公開日(公表日): 2001年06月05日
要約:
【要約】【課題】 様々な蒸着条件に対応して膜厚分布の均一な光学薄膜を形成することが可能な光学薄膜製造装置と光学薄膜製造方法を提供する。【解決手段】 レンズ(L1)を自転可能に保持するレンズホルダー(H)と支持ホルダー(P)、レンズ(L1)の表面に向けて薄膜形成用の蒸着材料(S1)を蒸散させる蒸着源(S)を設けた。蒸着源(S)から蒸散した蒸着材料(S1)が、その蒸気密度分布の高い部分ほどレンズ(L1)の表面に大きな入射角で到達するように、蒸着源(S)と支持ホルダー(P)との相対位置を、水平方向,垂直方向,傾斜方向のうちの少なくとも1つの方向に変化させるレンズ側駆動機構(ML),蒸着源側駆動機構(MS)を設けた。
請求項(抜粋):
光学素子を自転又は自公転可能に保持する保持部材と、前記光学素子の表面に向けて薄膜形成用の蒸着材料を蒸散させる蒸着源を備えた光学薄膜製造装置において、前記蒸着源から蒸散した蒸着材料が、その蒸気密度分布の高い部分ほど前記光学素子の表面に大きな入射角で到達するように、前記蒸着源と前記保持部材との相対位置を、水平方向,垂直方向,傾斜方向のうちの少なくとも1つの方向に変化させる可変機構を設けたことを特徴とする光学薄膜製造装置。
IPC (2件):
FI (2件):
C23C 14/50 H
, G02B 1/10 Z
Fターム (15件):
2K009AA02
, 2K009BB02
, 2K009CC03
, 2K009CC06
, 2K009DD03
, 2K009DD09
, 4K029AA09
, 4K029AA21
, 4K029BA42
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029JA02
, 4K029JA08
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