特許
J-GLOBAL ID:200903053937398966
めっき浴、組織化硬質クロム層の形成および使用
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 正武 (外7名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-557019
公開番号(公開出願番号):特表2002-519514
出願日: 1999年06月24日
公開日(公表日): 2002年07月02日
要約:
【要約】本発明は、めっき浴、該めっき浴を使用した対象のクロム沈着法およびマシン構成部材上の組織化硬質クロム層の形成のための該方法の使用に関する。めっき浴は、クロム(VI)イオンを供給する少なくとも1つの化合物を水溶液中に含み、a)無水クロム酸100〜600g/lに対応する量のクロム(VI)イオンと、b)クロム(VI)イオン/硫酸イオン(SO42-)のモル濃度比が90:1〜120:1の硫酸および/または可溶性硫酸塩の形の硫酸イオンと、ナトリウム塩0.01〜3.0g/lに対応する量の2-ヒドロキシエタンスルホン酸イオンとを含む。
請求項(抜粋):
クロム(VI)イオンを供給する少なくとも1つの化合物を水溶液中に含むめっき浴において、a)無水クロム酸100〜600g/lに対応する量のクロム(VI)イオンと、b)クロム(VI)イオン/硫酸イオン(SO42-)のモル濃度比が90:1〜120:1の硫酸および/または可溶性硫酸塩の形の硫酸イオンと、c)ナトリウム塩0.01〜3.0g/lに対応する量の2-ヒドロキシエタンスルホン酸イオンと、を含むことを特徴とするめっき浴。
IPC (6件):
C25D 3/04
, C25D 3/10
, C25D 5/14
, C25D 5/18
, C25D 7/00
, C25D 7/10
FI (6件):
C25D 3/04
, C25D 3/10
, C25D 5/14
, C25D 5/18
, C25D 7/00 U
, C25D 7/10
Fターム (18件):
4K023AA11
, 4K023BA02
, 4K023CA01
, 4K023CB08
, 4K023DA07
, 4K023DA08
, 4K024AA02
, 4K024AB03
, 4K024AB19
, 4K024BB04
, 4K024BB06
, 4K024BB16
, 4K024CA01
, 4K024CA02
, 4K024CA04
, 4K024CA06
, 4K024CA08
, 4K024GA03
引用特許:
審査官引用 (2件)
-
特開昭48-009933
-
特開昭48-009933
前のページに戻る