特許
J-GLOBAL ID：200903053938255174
イオンビーム装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 和秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-069877
公開番号（公開出願番号）：特開平6-283131
出願日： 1993年03月29日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 絶縁性の試料7に対して、所望のエネルギーでイオンを入射させることができるイオンビーム装置1を提供する。【構成】 試料7の表面部分に、プラズマ生成手段11によって所定の電位のプラズマ10を生成させるように構成し、イオンの入射によって試料7表面がチャージアップしようとしても、プラズマ10の電子あるいはイオンによってそれを防止するようにしている。
請求項（抜粋）：
イオンを加速して試料に照射するイオンビーム装置であって、所定の電位のプラズマを前記試料の表面部分に生成するプラズマ生成手段を設けたことを特徴とするイオンビーム装置。
IPC (2件)：
H01J 37/317
, H01L 21/265
