感光性樹脂組成物及びパターン形成方法およびそれを用いた電子装置の製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-275288
公開番号（公開出願番号）：特開平8-227154
出願日： 1995年10月24日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：

【要約】【課題】基板上にポリイミドパターンを形成するための感光性樹脂組成物とそれを用いた電子装置の製法の提供。【解決手段】(a)一般式〔1〕(但し、Aは4価の炭素数6〜39の芳香族基または炭素数4〜39の脂肪族基、Bは2価の炭素数3〜39の芳香族基または脂肪族基、nは10〜720の整数を示す)で表されるポリアミド酸と、(b)電磁波照射により1級または2級アミンを生ずる光塩基発生剤、または、電磁波照射により遊離酸を生ずる光酸発生剤とアミン系化合物とを含み、前記光塩基発生剤または光酸発生剤が、前記ポリアミド酸のカルボキシル基1モルに対して0.01 モル以上0.2 モル未満配合されており、前記アミン系化合物が光酸発生剤より多く配合されている感光性樹脂組成物。【化11】

請求項（抜粋）：

(a)一般式〔1〕【化1】(但し、Aは4価の炭素数6〜39の芳香族基または炭素数4〜39の脂肪族基、Bは2価の炭素数3〜39の芳香族基または脂肪族基、nは10〜720の整数を示す)で表されるポリアミド酸と、(b)電磁波照射により1級または2級アミンを生ずる光塩基発生剤、または、電磁波照射により遊離酸を生ずる光酸発生剤とアミン系化合物とを含み、前記光塩基発生剤または光酸発生剤が、前記ポリアミド酸のカルボキシル基1モルに対して0.01〜0.2モル配合されており、前記アミン系化合物が光酸発生剤より多く配合されていることを特徴とする感光性樹脂組成物。

IPC (8件)：

G03F 7/038 504 , G03F 7/038 505 , C08L 79/08 LRB , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , G03F 7/38 511 , H01L 21/027 , H01L 21/312

FI (10件)：

G03F 7/038 504 , G03F 7/038 505 , C08L 79/08 LRB , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 501 , G03F 7/38 511 , H01L 21/312 B , H01L 21/312 M , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 568

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