特許

J-GLOBAL ID：200903053946298648

微細形状作成プロセス及び光ディスク原盤の作成方法

発明者： 梅澤 朋一 ,  杉山 征人 ,  藤井 永一 ,  加瀬谷 浩康
出願人/特許権者： 帝人株式会社 ,  セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-230043
公開番号（公開出願番号）：特開2003-045095
出願日： 2001年07月30日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：

【要約】【課題】 フォトレジストの光露光によりパターン形成する技術において、露光装置の光学系を変えることなく、分解能が高く、表面性に優れ、均一性が高い形状を作るプロセスを提供する。【解決手段】 基板上にポジ型フォトレジスト層、アルカリ処理を行ったフォトレジスト層、光照射により光の透過率が上昇する層をこの順番で有する積層体に光を照射し、露光によってパターンを形成する。

請求項（抜粋）：

基板上に、ポジ型フォトレジスト層、アルカリ処理を行ったポジ型フォトレジスト層および光照射により光の透過率が上昇する層をこの順番で有する積層体に、パターンを形成するように光を照射することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (4件)：

G11B 7/26 501 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G11B 7/26 501 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (14件)：

2H025AA02 ,  2H025AA18 ,  2H025AB14 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025DA32 ,  2H025FA17 ,  5D121BA01 ,  5D121BB04 ,  5D121BB31 ,  5D121BB40 ,  5D121GG12 ,  5D121GG16