ポジ型フォトレジスト組成物及びその溶解速度調整方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-074345
公開番号（公開出願番号）：特開平8-272089
出願日： 1995年03月31日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：

【要約】【目的】はじめに設定したレジスト諸特性を変化させることなく、簡単に溶解速度を調整出来るポジ型フォトレジスト組成物及びその溶解速度調整方法を提供すること。【構成】アルカリ可溶性樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、安息香酸、フタル酸、o,m,p-トルイル酸、サリチル酸の少なくとも一つ、もしくは4級アンモニウム塩、メタクリル酸、アクリル酸エステル重合体、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂の少なくとも一つを固形分に対して0.1〜10重量%含有するポジ型フォトレジスト。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、安息香酸、フタル酸、o,m,p-トルイル酸、サリチル酸の少なくとも一つを含有してなることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/022 , G03F 7/023 511 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/022 , G03F 7/023 511 , H01L 21/30 502 R

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