特許

J-GLOBAL ID：200903053962711199

新規なチア(ジア)ゾル酢酸の反応性チオホスフェート誘導体及びその製造方法

発明者： キム ソング ギョム ,  イム ゾング チャン ,  グオン テ ソック ,  バック ボング ジュン ,  キム ウ ヒョン
出願人/特許権者： ラッキー リミテッド
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-072044
公開番号（公開出願番号）：特開平7-002884
出願日： 1994年04月11日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 β-ラクタム系抗生剤の製造時に有用な新規なチア(ジア)ゾル酢酸の反応性チオホスフェート誘導体及びその製造方法を提供する。【構成】 下記の一般式(I)〔式中、R1 は水素又はアミノ保護基を示し;R2 は水素、C1 -C4 アルキル基又は-C(Ra )(Rb )CO2 Rc を示し、ここでR2 が-C(Ra )(Rb )CO2 Rc である場合には、Ra とRbは同じであるか又は異なり、水素、C1 -C4 アルキル基又はそれらが結合されている炭素原子と共にC3 -C7 シクロアルキル基を形成することができる基を示し、Rc は水素又はカルボキシ保護基を示し;R3 はC1 -C4 アルキル基又はフェニル基又はそれらが結合して酸素、燐原子とともに5乃至6員の複素環式環を形成することができる基を示し、QはN又はCHを示す〕で表わされるチア(ジア)ゾル酢酸の反応性チオホスフェート誘導体及びその製法。

請求項（抜粋）：

下記の一般式(I)【化1】〔式中、R1 は水素又はアミノ保護基を示し;R2 は水素、C1 -C4 アルキル基又は-C(Ra )(Rb )CO2 Rc を示し、ここでR2 が-C(Ra )(Rb )CO2 Rc である場合には、Ra とRbは同じであるか又は異なり、水素、C1 -C4 アルキル基又はそれらが結合されている炭素原子と共にC3 -C7 シクロアルキル基を形成することができる基を示し、Rc は水素又はカルボキシ保護基を示し;R3 はC1 -C4 アルキル基又はフェニル基又はそれらが結合して酸素、燐原子とともに5乃至6員の複素環式環を形成することができる基を示し、QはN又はCHを示す〕で表わされることを特徴とする新規なチア(ジア)ゾル酢酸の反応性チオホスフェート誘導体。

IPC (3件)：

C07F 9/6539 ,  C07D277/593 ,  C07D285/08