ガイドブッシュおよびガイドブッシュへの被膜形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大澤敬 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-182892
公開番号（公開出願番号）：特開平10-109203
出願日： 1997年07月08日
公開日（公表日）： 1998年04月28日
要約：

【要約】【課題】長期間の使用や重切削においても、焼き付きにより切削不能になることなく、被加工物のバリによるガイドブッシュ内周面のキズの発生も防止する。【解決手段】自動旋盤に装着され、被加工物(51)を切削工具の近くで回転及び軸方向に摺動可能に保持するガイドブッシュ(11)の、被加工物(51)と摺接する内周面(11b)及びその開口端面(11h)の内周面近傍部分(11h1)に、直接又は密着性を高める中間層を介して、あるいは硬質部材を設けてその表面に直接又は密着性を高める中間層を介して、補助電極およびダミー部材を使用したプラズマCVDプロセスにより硬質カーボン膜(15)を形成する。

請求項（抜粋）：

軸方向に中心開口を有する略円筒状に形成され、一端部に外周テーパ面と被加工物と摺接する内周面と摺り割りとを有し、自動旋盤に装着されたとき、前記中心開口に挿入された被加工物を切削工具の近くで回転及び軸方向に摺動可能に保持するガイドブッシュへの被膜形成方法であって、前記ガイドブッシュを、ガス導入口及び排気口を備えた真空槽内に配置し、そのガイドブッシュの前記内周面を形成する中心開口内に補助電極を挿入して、それを接地電位にし、該ガイドブッシュの前記中心開口の径より大きい開口径を有するリング状のダミー部材を、該ガイドブッシュの前記内周面が開口する端面上に前記中心開口と中心を一致させるように配置して、前記端面の前記内周面の近傍部分を環状に露出させ、前記真空槽内を排気した後、前記ガス導入口から炭素を含むガスを該真空槽内に導入し、前記真空槽内にプラズマを発生させて、プラズマCVDプロセスにより前記ガイドブッシュの前記内周面及び前記端面の該内周面の近傍部分に、水素化アモルファス・カーボンによる硬質カーボン膜を形成することを特徴とするガイドブッシュへの被膜形成方法。

IPC (3件)：

B23B 13/12 , C23C 16/26 , F16C 33/04

FI (3件)：

B23B 13/12 B , C23C 16/26 , F16C 33/04

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-141303
特開昭62-116767
特開昭62-132800

全件表示

前のページに戻る