特許

J-GLOBAL ID：200903053970909020

軟磁性薄膜の製造方法

発明者： 箕野 哲哉 ,  宇野 泰史
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
代理人 (1件)： 石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-269449
公開番号（公開出願番号）：特開平10-097707
出願日： 1996年09月19日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：

【要約】【課題】 MRヘッドや、再生用のMRヘッド部と記録用の誘導型ヘッド部とを有するMR誘導型複合ヘッドの磁気シールド膜や磁極に適用される軟磁性薄膜を形成する際に、高温での熱処理を施さずに前記軟磁性薄膜の応力を制御可能とする。【解決手段】 Fe-Zr-N等の金属窒化物から構成される薄膜を形成する際の反応性スパッタ工程において、基板とターゲットとが周期的に対向するようにターゲットに対する基板の相対的移動を行うか、基板に負のバイアス電圧を加えるか、前記相対的移動を行いかつ前記負のバイアス電圧を加えることにより、前記薄膜の応力を制御する。

請求項（抜粋）：

金属窒化物から構成される薄膜を反応性スパッタにより基板上に形成する工程を有し、前記反応性スパッタに際し、基板とターゲットとが周期的に対向するようにターゲットに対する基板の相対的移動を行うか、基板に負のバイアス電圧を加えるか、前記相対的移動を行いかつ前記負のバイアス電圧を加えることにより、前記薄膜の応力を制御する軟磁性薄膜の製造方法。

IPC (5件)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/127 ,  G11B 5/39 ,  H01F 41/18 ,  H01L 43/12

FI (5件)：

G11B 5/31 C ,  G11B 5/127 K ,  G11B 5/39 ,  H01F 41/18 ,  H01L 43/12

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-121312
  
• 軟磁性薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-344030   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 特開平4-137715
  
• 特開平3-001513