特許

J-GLOBAL ID：200903053985627225

光磁気記録媒体及びその製造方法

発明者： 加賀美 信武 ,  土居 祐一郎
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-163797
公開番号（公開出願番号）：特開平5-334743
出願日： 1992年05月30日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：

【要約】【構成】 基板上にスパッタリングにより誘電体層、磁性層が順次形成されている光磁気記録媒体において、スパッタリングの際、基板とターゲットを静止状態に保って誘電体層を形成し、基板表面に形成された誘電体層にスパッタリング法によってエッチングを施した後に磁性層を形成する。【効果】 100Oe以下の低磁場でオーバーライトが可能であり、良好な記録磁界感度特性を有する品質の向上された光磁気記録媒体を得ることができ、製造設備の縮小が可能であり、生産性を向上させることができる。

請求項（抜粋）：

基板上にスパッタリングにより誘電体層、磁性層が順次形成されてなる光磁気記録媒体において、スパッタリングの際、基板とターゲットが静止状態に保たれて誘電体層が形成され、基板表面に形成された誘電体層がスパッタリング法によってエッチングされた後に該誘電体層上に磁性層が形成されてなることを特徴とする光磁気記録媒体。