特許
J-GLOBAL ID:200903053991645766

シャドウマスクの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大胡 典夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-089166
公開番号(公開出願番号):特開平5-290724
出願日: 1992年04月10日
公開日(公表日): 1993年11月05日
要約:
【要約】【構成】 シャドウマスク素材10の両主面に感光膜11を形成し、この感光膜にシャドウマスクの多数の電子ビーム通過孔に対応するパターンを焼付け現像してレジスト膜13a,13b を形成したのち、エッチングして、電子ビーム通過孔の形成された平板状のフラットマスク15を製作するシャドウマスクの製造方法において、シャドウマスク素材を高粗度材とし、この高粗度材を用いてフラットマスクを製作する工程中に回転ローラにより高粗度材のもつ内部応力を低減して、この内部応力が原因で生ずるフラットマスクの反りを小さくするようにした。【効果】 高粗度材のもつ内部応力が原因で生ずるフラットマスクの反りを小さくすることができる。
請求項(抜粋):
シャドウマスク素材の両主面に感光膜を形成し、この感光膜にシャドウマスクの多数の電子ビーム通過孔に対応するパターンを焼付け現像して上記電子ビーム通過孔に対応するパターンからなるレジスト膜を形成したのち、エッチングして、上記電子ビーム通過孔の形成された平板状のフラットマスクを製作するシャドウマスクの製造方法において、上記シャドウマスク素材を高粗度材とし、この高粗度材を用いて上記フラットマスクを製作する工程中に回転ローラにより上記高粗度材のもつ内部応力を低減して、この内部応力が原因で生ずる上記フラットマスクの反りを小さくしたことを特徴とするシャドウマスクの製造方法。

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