特許

J-GLOBAL ID：200903054005290986

半導体処理工程制御システム、半導体処理工程制御方法、及び、そのための処理を記録した記録媒体

発明者： 原 川 正 一 ,  池 田 誠 ,  福 田 悦 生
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-186523
公開番号（公開出願番号）：特開2001-015398
出願日： 1999年06月30日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：

【要約】【課題】 処理工程、制御変数の計算法、処理装置の変化に柔軟かつ迅速に対応できる半導体処理工程制御システムを提供する【解決手段】 半導体処理装置及び目的とする処理内容によらず半導体処理工程の制御を行うプロセス制御本体部100と、半導体処理装置及び目的とする処理内容に適した半導体処理装置の制御条件を求める制御変数計算プログラム210とから、半導体処理工程制御システムを構成する。制御変数計算プログラム210は、必要なものをプロセス制御本体部100にプラグインして使用される。半導体処理装置やその処理内容が変更された場合には、制御変数計算プログラム210のみを変更すれば足りる。

請求項（抜粋）：

半導体処理装置及び処理目標によらず半導体処理工程の制御を行うプロセス制御本体部と、前記半導体処理装置及び前処理目標に適合する半導体処理装置の制御変数を求める制御変数計算手段であって、前記半導体処理装置及び前記処理目標に応じて複数存在する制御変数計算手段と、を備えるとともに、前記制御変数計算手段は、前記プロセス制御本体部と必要に応じて抜き差し可能であるよう構成されている、ことを特徴とする半導体処理工程制御システム。

IPC (4件)：

H01L 21/02 ,  G05B 15/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

H01L 21/02 Z ,  G05B 15/02 M ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

Fターム (12件)：

5F004AA16 ,  5F004CA09 ,  5F045BB08 ,  5F045BB10 ,  5F045GB17 ,  5H215AA06 ,  5H215BB16 ,  5H215BB18 ,  5H215CC09 ,  5H215CX09 ,  5H215KK01 ,  5H215KK04