特許

J-GLOBAL ID：200903054006287644

ポリアリーレン系重合体の精製方法

発明者： 後藤 幸平 ,  ロジャンスキー イーゴリ ,  高橋 昌之
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 白井 重隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-093289
公開番号（公開出願番号）：特開2001-278958
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 不純物を極力低減させ、低誘電率で機械的強度、電気的安定性に優れたポリアリーレン系重合体を得る。【解決手段】 下記一般式(1)で示されるポリアリーレン系重合体を、有機酸水溶液で処理して、精製する。一般式(1)〔一般式(1)中、Xは-CYY′-(ここで、Y〜Y′は同一または異なり、水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基またはアリール基を示す)で表される基、またはフルオレニレン基を示し、R1〜R8は同一または異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリル基、またはアリール基である。〕

請求項（抜粋）：

ポリアリーレン系重合体を、有機酸水溶液で処理することを特徴とするポリアリーレン系重合体の精製方法。

Fターム (12件)：

4J032CA02 ,  4J032CA03 ,  4J032CA04 ,  4J032CA06 ,  4J032CA07 ,  4J032CD01 ,  4J032CD02 ,  4J032CD07 ,  4J032CE03 ,  4J032CF05 ,  4J032CG07 ,  4J032CG08

引用特許：

審査官引用 (3件)

• フェニレン基含有共重合体の製造方法および膜形成材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-040997   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 開環メタセシス(共)重合体の水素添加物及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-295826   出願人：三井化学株式会社
• 特開昭59-176317