特許
J-GLOBAL ID：200903054007156284
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-139760
公開番号（公開出願番号）：特開平10-335412
出願日： 1997年05月29日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：
【要約】【課題】 ロット内の全ての基板の品質を一定に維持し、不良ロットの発生を抑えることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 搬送ロボットが各処理部間を移動しながら基板を搬送するとともに各処理部にて基板に処理を施す基板処理装置において、露光後ベーク部31以外の処理部では処理時間に等しい所要時間を設定し、露光後ベーク部31では処理時間60秒に対して他のいずれの処理部の所要時間よりも長い所要時間100秒を設定する。搬送ロボットは基板の投入から所要時間経過後に基板を取り出して次の基板を投入する動作を行う。これにより、ロットの最初の方の基板とロットの他の部分の基板とを露光後ベーク部31内に同じ時間だけ存在させておくことが可能となり、ロット内の全基板に同一の処理が施される。その結果、ロット内の全基板の品質を一定に維持し、不良ロットの発生を抑えることができる。
請求項（抜粋）：
基板群の各基板に複数の処理を順次施す基板処理装置であって、前記複数の処理を基板に施す複数の処理部と、前記複数の処理部のそれぞれについて処理に要する処理時間以上の所要時間を設定するとともに、処理時間を合わせ込むべき特定の種類の処理部の所要時間を他の処理部の所要時間のうち最も長い所要時間以上に設定する所要時間設定手段と、前記複数の処理部のそれぞれにおいて所要時間が経過した基板を取り出すとともに前工程の処理部からの基板を投入し、取り出した基板を次工程の処理部へと搬送することにより前記基板群の各基板を前記複数の処理部へと順次搬送する搬送手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68
, H01L 21/02
, H01L 21/027
H01L 21/68 A
, H01L 21/02 Z
, H01L 21/30 502 J
