特許
J-GLOBAL ID：200903054010607815
溶射セラミックス層を有するセラミックス積層体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-182703
公開番号（公開出願番号）：特開2000-007472
出願日： 1998年06月29日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：
【要約】【課題】 簡便且つ低コストで製造可能で、高温での機械的特性及び耐酸化性に優れた構造部材用材料及びその製造方法を提供する。【解決手段】 セラミックス積層体は、珪化物セラミックスを含有する第1層 (1)と、該第1層上に形成され酸化硅素又は珪酸化合物を含有する第2層(3, 5)と、該第2層上に溶射により形成される溶射セラミックス層 (7)とを有する。第2層の酸化硅素は第1層の酸化により、珪酸化合物は、第1層の酸化物とIa族、IIa族、IIIa族又はIVa族に属する元素の酸化物粉末とから生成される。
請求項（抜粋）：
珪化物セラミックスを含有する第1層と、該第1層上に生成され酸化硅素又は珪酸化合物を含有する第2層と、該第2層上に溶射により形成される溶射セラミックス層とを有することを特徴とするセラミックス積層体。
引用特許：
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