特許

J-GLOBAL ID：200903054015747968

微細構造転写装置

発明者： 近藤 弓人 ,  高橋 一雄 ,  荻野 雅彦 ,  安藤 拓司 ,  宮内 昭浩
出願人/特許権者： 株式会社日立プラントテクノロジー
代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-151763
公開番号（公開出願番号）：特開2006-326948
出願日： 2005年05月25日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：

【課題】 ロールの回転速度を高くし生産性を高めても期待したパターンを転写することができる微細構造転写装置を提供することである。【解決手段】 樹脂層に微細なパターンを有するスタンパを加熱加圧することにより、樹脂層に該スタンパの微細パターンを転写する微細構造転写装置であり、スタンパを有するべルト9をスタンパのパターン面が樹脂層2側となるようにして樹脂層2と対向させ、多段に設けたローラ13によりベルト9を介してスタンパを樹脂層2に加熱加圧し、転写する。 【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

樹脂層に微細なパターンを有するスタンパを加熱加圧することにより、該樹脂層に該スタンパの微細パターンを転写する微細構造転写装置において、

IPC (3件)：

B29C 59/04 ,  B81C 5/00 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

B29C59/04 B ,  B81C5/00 ,  H01L21/30 502D

Fターム (15件)：

4F209AC03 ,  4F209AF00 ,  4F209AG01 ,  4F209AH33 ,  4F209AR02 ,  4F209AR06 ,  4F209PA05 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN03 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ06 ,  4F209PQ07 ,  5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (1件)

• エンボス加工装置とその製品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-132082   出願人：小林一雄

審査官引用 (3件)

• 特開昭56-159127
  
• 真空積層装置及び積層方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-164889   出願人：ニチゴー・モートン株式会社
• 特公昭42-022315