特許
J-GLOBAL ID:200903054024668418
電気的接触によって描かれた放射像
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
浅村 皓 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-553915
公開番号(公開出願番号):特表2002-517866
出願日: 1999年06月08日
公開日(公表日): 2002年06月18日
要約:
【要約】接触によって描かれる像を発生する装置(図1の要素101)であって、接触自体が開放回路を閉鎖した接触に整合したパターンで放射を発生させる装置である。その結果の放射された像は放射を付勢する接触パターンに直接対応する。バック電極の無い電界発光システム(図1の要素100)によって使用可能とされる好適実施例において、指紋は接触することによって「一時的な」バック電極として作用することによって開放回路を閉鎖するよう配置される。次いで、電界発光は接触(すなわち、図1の指紋)と整合したパターンで付勢し、コントラストに対して高度の忠実度を備えた可視光線の高分解度の像を放射する。次いで、この可視光線の像は、該像ピクセル化そ該像を示す電気信号に変換するのに適した当該技術分野で標準的な感光アレイ上に導かれる。この信号はコンピュータ化した記憶、分析、処理および比較のために利用しうる。
請求項(抜粋):
選択的な接触を描写する像を発生させる方法において、 (a)受け面に亘って開放した電気回路であって、該電気回路の閉鎖時、付勢可能な放射源を含む電気回路を配置させる段階と、 (b)接触面で前記受け面に触れる段階であって、前記触れる事が接触面と受け面との間の接触ゾーンと整合したパターンで電気回路を選択的に閉鎖するよう作用する触れる段階と、 (c)前記電気回路の前記選択的な閉鎖に応答して、前記接触ゾーンに対応する像であって、前記パターンで付勢された放射からなる像を発生させる段階とを含むことを特徴とする選択的な接触を描写する像を発生させる方法。
IPC (2件):
G06T 1/00 400
, A61B 5/117
FI (2件):
G06T 1/00 400 G
, A61B 5/10 322
Fターム (6件):
4C038FF01
, 4C038FG00
, 5B047AA25
, 5B047BA02
, 5B047BB10
, 5B047BC14
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (1件)
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起伏物体像生成器
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-510374
出願人:エセンティカインク
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