特許
J-GLOBAL ID：200903054037927412
面位置検出装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-148920
公開番号（公開出願番号）：特開平7-221013
出願日： 1994年06月30日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：
【要約】【目的】 被検面上に斜めに計測用パターン像を投影し、その計測用パターン像を再結像して面位置の検出を行う場合に、装置を小型化し、その被検面上の計測点の個数及び位置を任意に設定し、且つ下地パターンの影響を低減させる。【構成】 ウエハ上の矩形のショット領域上に斜めに投射光学系を介して格子パターン像を投影する。この格子パターン像36を2次元CCDの撮像面17a上に再結像する。ショット領域の凹凸による格子パターン像36の変位方向(X3方向)に対して格子パターン像36の長手方向に垂直な計測方向は非平行であり、2次元CCDの走査方向(X3方向)は格子パターン像36の長手方向に対して非平行である。ウエハ上の下地パターンの像のエッジは2次元CCDの走査方向に平行である。
請求項（抜粋）：
第1面上に形成された所定のパターンの像を被検面に対して斜めの方向から投射する投射光学系と、前記被検面で反射された光束を集光して前記所定のパターンの像を第2面上に形成する集光光学系と、前記第2面上の前記所定のパターンの像の位置を光電的に検出する光電検出器とを有し、該光電検出器の検出結果に基づいて前記被検面の面位置を検出する装置において、前記光電検出器として2次元走査型撮像素子を用い、前記所定のパターンとしてスリット状パターンを使用し、前記被検面の面位置が変化したときの前記第2面上の前記スリット状パターンの像の変位方向と前記スリット状パターンの像の長手方向に垂直な計測方向とを非平行にし、且つ前記第2面上の前記スリット状パターンの像の長手方向と前記2次元走査型撮像素子の走査方向とを非平行にしたことを特徴とする面位置検出装置。
IPC (2件)：
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