特許

J-GLOBAL ID：200903054053174335

パターン投影光学系

発明者： 和田 滋 ,  武田 泰彦 ,  河野 哲生
出願人/特許権者： ミノルタ株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-143347
公開番号（公開出願番号）：特開2000-330226
出願日： 1999年05月24日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】 パターン光のコントラストおよび光量と、装置の携帯性とを最適化したパターン投影光学系を提供する。【解決手段】 パターン投影光学系は、光を透過するパターンをもつマスクと、マスクを照明する光源と、光源と上記マスクとの間に配置されたレンズとからなる。光源の大きさをA、レンズの倍率をB、光源とマスクとの間の距離をTとしたときに、0.004 < A×B/T < 0.035なる条件を満たしている。

請求項（抜粋）：

光を透過するパターンをもつマスクと、該マスクを照明する光源と、該光源と上記マスクとの間に配置されたレンズとからなり、上記光源の大きさをA、上記レンズの倍率をB、上記光源と上記マスクとの間の距離をTとしたときに、0.004 < A×B/T < 0.035なる条件を満たしていることを特徴とするパターン投影光学系。

Fターム (1件)：

2H059AC01