特許

J-GLOBAL ID：200903054055736020

放電加工装置、放電加工方法、および放電加工装置用加工液

発明者： 上山 智嗣 ,  山田 久 ,  湯澤 隆
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-093630
公開番号（公開出願番号）：特開2009-241238
出願日： 2008年03月31日
公開日（公表日）： 2009年10月22日
要約：

【課題】加工間隙付近における加工液の流動性を低下させるような大きな気泡の発生を低減する放電加工装置、放電加工方法、および放電加工装置用加工液を得ること。【解決手段】被加工物と加工電極との間の微少な加工間隙に水を主成分とする加工液で満たした状態で被加工物と加工電極との間にパルス状電圧を印加して被加工物に加工を施す放電加工装置において、加工液は、該加工液全量に対する重量濃度が0.05〜5パーセントの範囲の非イオン性界面活性物質を含有する、ことを特徴とする。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

被加工物と加工電極との間の微少な加工間隙に水を主成分とする加工液で満たした状態で前記被加工物と前記加工電極との間にパルス状電圧を印加して前記被加工物に加工を施す放電加工装置において、 前記加工液は、該加工液全量に対する重量濃度が0.05〜5パーセントの範囲の非イオン性界面活性物質を含有する、 ことを特徴とする放電加工装置。

IPC (4件)：

B23H 1/08 ,  C10M 173/02 ,  C10M 129/06 ,  C10M 129/08

FI (4件)：

B23H1/08 ,  C10M173/02 ,  C10M129/06 ,  C10M129/08

Fターム (13件)：

3C059AA01 ,  3C059AB00 ,  3C059EA02 ,  4H104BB02A ,  4H104BB04A ,  4H104EA17C ,  4H104EA21C ,  4H104LA01 ,  4H104LA20 ,  4H104PA22 ,  4H104PA50 ,  4H104QA03 ,  4H104QA05

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平3-121724号公報
  
• 特開平2-36019号公報
  

審査官引用 (3件)

• 特開平4-250921
  
• 特開平4-250921
  
• 特開平4-250921