疎水化表面改質乾式シリカ粉末

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：千葉博史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-041669
公開番号（公開出願番号）：特開2007-217249
出願日： 2006年02月17日
公開日（公表日）： 2007年08月30日
要約：

【課題】電子写真用トナーの外添剤として好適であり、トナーの流動性およびクリーニング性を高める疎水化シリカ粉末等を提供する。【解決手段】オルガノポリシロキサンで疎水化表面処理された乾式シリカ粉末であり、好ましくは、一般式X-[Si(R) (R)O]p-Si(R) (R)-Xで表されるオルガノポリシロキサンによって表面され、疎水率85%以上、29Si固体NMRによって測定したシングルシラノール基積分値(A)とシロキサン積分値(D)の比(A/D)が0.25<(A/D)<0.50であることを特徴とする疎水化表面改質乾式シリカ粉末。(式中、置換基Rはその少なくとも80%以上がメチル基であって、Rの一部は水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アリール基でもよく、Xは水素原子、アルキル基、ビニル基、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基からなり、pは15から500の整数)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

オルガノポリシロキサンで疎水化表面処理された乾式シリカ粉末であって、疎水率が85%以上であり、29Si固体NMRによって測定したシングルシラノール基積分値(A)とシロキサン積分値(D)の比(A/D)が0.25<(A/D)<0.50であることを特徴とする疎水化表面改質乾式シリカ粉末。

IPC (3件)：

C01B 33/18 , G03G 9/08 , G03G 9/087

FI (4件)：

C01B33/18 C , G03G9/08 371 , G03G9/08 375 , G03G9/08 381

Fターム (16件)：

2H005AA08 , 2H005AB02 , 2H005CA12 , 2H005CB13 , 2H005DA05 , 2H005DA07 , 2H005EA10 , 4G072AA28 , 4G072CC16 , 4G072GG01 , 4G072GG03 , 4G072HH17 , 4G072HH29 , 4G072QQ07 , 4G072TT30 , 4G072UU30

引用特許：

出願人引用 (8件)

特公昭57-2641号公報
画像形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-017041 出願人：富士ゼロックス株式会社
特開平2-287459号公報

全件表示

前のページに戻る