特許
J-GLOBAL ID：200903054066257035
表面形状測定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-336824
公開番号（公開出願番号）：特開平5-180652
出願日： 1991年12月19日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：
【要約】【目的】 被測定対象物の形状を高い精度でかつ少ない測定点の数で測定することができる表面形状測定方法を得る。【構成】 (A)に示すように被測定対象物の代表断面の断面線に沿って所定の間隔で配置した複数の測定点42A〜42Gの座標を測定する。(B)に示すように各測定点の座標に基づいて各測定点を通過する仮想線を作成し、例として(C)に示すように測定点42D、42Eの間に配置した検証点44A、44Bの座標を測定する。各検証点と仮想線との偏差A、Bが所定値以上の場合には、(D)に示すように検証点44A、44Bの座標に基づいて仮想線を修正する。さらに測定点42Dと検証点44Aとの間に配置した検証点44C、44Dの座標を測定し、仮想線との偏差が所定値以上の検証点(検証点44C)の座標に基づいて仮想線を修正する((E)参照)。上記処理を各測定点間に対して行い、断面線に対する仮想線の偏差を所定値以下とする。
請求項（抜粋）：
被測定対象物の表面上の複数の測定点の座標を測定し、各測定点の座標に基づいて仮想線または仮想面を求め、隣り合う測定点の間の前記仮想線または前記仮想面を検証するための前記隣り合う測定点の間の検証点の座標を測定し、前記検証点の座標と前記仮想線または前記仮想面上の前記検証点に対応する部分の座標との偏差を求め、前記偏差が所定値以下の場合には前記仮想線または前記仮想面の前記隣り合う測定点の間の部分を被測定対象物の表面を表す線または面として採用し、前記偏差が所定値よりも大きい場合には前記検証点を測定点として採用し該採用した測定点の座標に基づいて仮想線または仮想面を修正し、前記偏差が所定値以下となるまで仮想線または仮想面の検証及び修正を繰り返し、表面形状を測定する表面形状測定方法。
IPC (2件)：
G01B 21/20 101
, G06F 15/60 400
