特許
J-GLOBAL ID:200903054069345393
オキシ硫酸チタンおよびそれを用いる酸化チタンの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
久保山 隆 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-211003
公開番号(公開出願番号):特開2002-029750
出願日: 2000年07月12日
公開日(公表日): 2002年01月29日
要約:
【要約】【課題】 可視光線を照射することによって高い光触媒活性を示す酸化チタンの製造方法およびその製造原料としての無機チタン化合物を提供する。【解決手段】 固体であり、かつ結晶構造が非晶質であるオキシ硫酸チタンと窒素含有塩基とを反応させ、得られた生成物を焼成する。
請求項(抜粋):
固体であり、かつ結晶構造が非晶質であることを特徴とするオキシ硫酸チタン。
IPC (4件):
C01G 23/08
, A61L 9/00
, B01J 35/02
, C01G 23/00
FI (4件):
C01G 23/08
, A61L 9/00 C
, B01J 35/02 J
, C01G 23/00 A
Fターム (28件):
4C080AA07
, 4C080BB02
, 4C080BB04
, 4C080CC02
, 4C080HH05
, 4C080JJ04
, 4C080KK08
, 4C080LL02
, 4C080MM02
, 4C080QQ03
, 4G047CA02
, 4G047CA04
, 4G047CB04
, 4G047CB05
, 4G047CC03
, 4G047CD03
, 4G047CD07
, 4G069AA08
, 4G069AA15
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069CA10
, 4G069CA17
, 4G069DA05
, 4G069EA02Y
, 4G069FA08
, 4G069FB30
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