特許

J-GLOBAL ID：200903054080603647

ポジ型レジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-188415
公開番号（公開出願番号）：特開2003-005375
出願日： 2001年06月21日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：

【要約】【課題】SEM耐性及び解像性に優れ、デフォーカスラチチュードが改善されたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】特定のラクトンモノマー単位の複数種を構成単位として有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)(a1)ブチロラクトン類、(a2)ノルボルナンラクトン類、(a3)シクロヘキサンラクトン類、及び(a4)アダマンタンラクトン類から選ばれる少なくとも2種のモノマーを構成単位として有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 18/24 ,  C08F 20/28 ,  C08F 20/38 ,  C08F 20/42 ,  C08F 28/02 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 18/24 ,  C08F 20/28 ,  C08F 20/38 ,  C08F 20/42 ,  C08F 28/02 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (43件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AH02P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL16P ,  4J100AL26P ,  4J100AM01P ,  4J100AP01P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA11P ,  4J100BA12P ,  4J100BA15P ,  4J100BA16P ,  4J100BA20P ,  4J100BA34P ,  4J100BA51P ,  4J100BA58P ,  4J100BC02P ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38