特許
J-GLOBAL ID：200903054089578424
プラズマ反応装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂間 暁 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-242603
公開番号（公開出願番号）：特開平8-107075
出願日： 1994年10月06日
公開日（公表日）： 1996年04月23日
要約：
【要約】【目的】 電極下部に反応ガスの均一なプラズマを作るようにしたプラズマ反応装置を得る。【構成】 反応容器11、同反応容器に反応ガスを供給する反応ガス供給手段、反応容器のガスを排出するガス排出手段、反応容器内に設けられ複数のループが平面状に隣接配配された形状の電極12、同電極につながれた高周波電源14、電極の平面に平行に通過しかつ同平面の中心軸周りに回転する磁界を発生する磁界発生コイル15a,15b,20a,20bを設ける。
請求項（抜粋）：
反応容器と、同反応容器に反応ガスを供給する反応ガス供給手段と、上記反応容器のガスを排出するガス排出手段と、上記反応容器内に設けられ複数のループが平面状に隣接配置された形状の電極と、同電極につながれた高周波電源手段と、上記電極の平面に平行に通過しかつ同平面の中心軸周りに回転する磁界を発生する磁界発生手段とを備えてなることを特徴とするプラズマ反応装置。
IPC (5件)：
H01L 21/205
, B01J 19/08
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, C30B 25/02
