架橋された、ラジカル生成基を有するオルガノポリシロキサン、その製法及びグラフトコポリマーの製法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-273767
公開番号（公開出願番号）：特開平7-188414
出願日： 1994年11月08日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：

【要約】【目的】ラジカル高分子重合開始剤としての、オルガノポリシロキサンからなるグラフトコポリマー【構成】一般式:[RaSi(O(3-a)/2)-R1-X-(R1-Si(O(3-a)/2))bRa](1)の単位及び他のオルガノシロキサン単位から構成された、架橋されたラジカル生成基を有するオルガノポリシロキサン。

請求項（抜粋）：

一般式:[RaSi(O(3-a)/2)-R1-X-(R1-Si(O(3-a)/2))bRa](1)の単位0.2〜50.0重量%、一般式:[R3SiO1/2] (2)の単位0〜80.0重量%、一般式:[R2SiO2/2] (3)の単位0〜99.5重量%、一般式:[RSiO3/2] (4)の単位0〜99.8重量%、及び一般式:[SiO4/2] (5)の単位0〜80.0重量%[式中、Rは、同一又は異なる一価のSiC-結合の、置換又は非置換のC1〜C18-炭化水素基を表わし、R1は、同一又は異なる二価のSiC-結合の、置換又は非置換のC1〜C18-炭化水素基を表わし、これは、基-O-、-COO-、-OOC-、CONR2-、NR2CO-及び-CO-からなる、両側で炭素原子に結合された二結合性の基によって遮断されていてよく、R2は、水素原子又は基Rを表わし、Xは、基-N=N-、-O-O-、-S-S-及び-C(C6H5)2-C(C6H5)2-からなる基を表わし、aは、0、1又は2の値を表わし、かつbは、0又は1の値を表わす]から構成された(この際、一般式(4)及び(5)の単位の合計は、少なくとも0.5重量%であり、かつオルガノポリシロキサンの高々5重量%が、トルオールで抽出可能である)、架橋された、ラジカル生成基を有するオルガノポリシロキサン。

IPC (2件)：

C08G 77/04 NUA , C08F283/12 MQV

引用特許：

審査官引用 (7件)

熱可塑性樹脂の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-308224 出願人：日本合成ゴム株式会社, 東芝シリコーン株式会社
特開平3-126727
特開昭61-252230

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