特許

J-GLOBAL ID：200903054108337034

新規アミン化合物及びその製造中間体並びにそれらの製造方法

発明者： 宇野 満 ,  木附 智人 ,  喜多 克己
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-157554
公開番号（公開出願番号）：特開平8-027080
出願日： 1994年07月08日
公開日（公表日）： 1996年01月30日
要約：

【要約】【構成】 アミン化合物(1)、その塩又はその4級化物及びその製造中間体であるアミン化合物(2)〜(4)、並びにそれらの製法。【化1】【化2】【化3】【化4】〔R1 及びR2 は-OHを有してもよいC1〜24のアルキル基又はアルケニル基、Aは-OHを有してもよいC1〜6のアルキレン基、Yは-COOH又は-SO3H、Zはスルホアルキル基又はアミノ酸から1つのアミノ基を除いた基、R3 はH又は-OHを有してもよいC1〜24のアルキル基もしくはアルケニル基、X1 はハロゲン原子を示す。〕【効果】 この化合物は、皮膚、毛髪に対する刺激が少なく、起泡性に優れ、かつ皮膚等に好ましい感触を与える。

請求項（抜粋）：

次の一般式(1)【化1】〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なってヒドロキシル基が置換していてもよい直鎖もしくは分岐鎖の炭素数1〜24のアルキル基又はアルケニル基を示し、Aはヒドロキシル基が置換していてもよい直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜6のアルキレン基を示し、Yはカルボキシル基又はスルホン酸基を示し、Zはスルホアルキル基又はアミノ酸もしくはその塩から1つのアミノ基を除いた基を示す。〕で表されるアミン化合物、その塩又はその4級化物。

IPC (6件)：

C07C229/12 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C07C309/14 ,  C07C309/17 ,  C07D303/36

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平3-066660
  
• 特開昭60-215656
  
• 特公昭49-007574