特許
J-GLOBAL ID：200903054116638566
光学素子成形装置、光学素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
増田 達哉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-010602
公開番号（公開出願番号）：特開2000-203852
出願日： 1999年01月19日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
要約：
【要約】【課題】簡略化された工程で内面反射のない光学素子を得ることができる光学素子成形装置およびこれを用いた光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】加熱軟化した光学素子材料5を加圧成形し光学素子の光学機能面および外径を同時に成形する光学素子成形装置4において、光学素子の少なくとも一部を粗面化させる粗面部41を有することを特徴とする。光学素子成形装置1は光学素子材料5を加圧成形する成形面21、31を有する一対の上型2および下型3と、光学素子の外周面を成形する外径型4とを備え、外径型4は前記粗面部41を有することが好ましい。
請求項（抜粋）：
加熱軟化した光学素子材料を加圧成形し光学素子の光学機能面および外径を同時に成形する光学素子成形装置において、前記光学素子の少なくとも一部を粗面化させる粗面部を有することを特徴とする光学素子成形装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
2K009BB02
, 2K009CC21
, 2K009DD02
, 2K009DD15
, 2K009EE00
, 2K009FF01
