真空薄膜形成装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石原勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-132772
公開番号（公開出願番号）：特開平5-320892
出願日： 1992年05月25日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：

【要約】【目的】表面に凹凸がある被薄膜形成体に対しても、均一な薄膜を形成できる真空薄膜形成装置を提供することを目的としている。【構成】真空容器1内に、成膜材料で構成されるターゲット4と被薄膜形成体3を保持する被薄膜形成体ホルダー2とを対向させて配置し、前記ターゲット4に電源5を接続して放電させることによって、前記被薄膜形成体3上に前記ターゲット4を構成する成膜材料よりなる薄膜を形成する真空薄膜形成装置において、前記ターゲット4が1個以上あり、且つ、少なくとも1つのターゲット4が、前記被薄膜形成体3に対する対向角度を任意に変化できることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

真空容器内に、成膜材料で構成されるターゲットと被薄膜形成体を保持する被薄膜形成体ホルダーとを対向させて配置し、前記ターゲットに電源を接続して放電させることによって、前記被薄膜形成体上に前記ターゲットを構成する成膜材料よりなる薄膜を形成する真空薄膜形成装置において、前記ターゲットが1個以上あり、且つ、少なくとも1つのターゲットが、前記被薄膜形成体に対する対向角度を任意に変化できることを特徴とする真空薄膜形成装置。

IPC (2件)：

C23C 14/34 , C23C 14/54

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平2-277768
特開昭63-060275
特開昭63-000465

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