特許

J-GLOBAL ID：200903054127868733

成膜装置

発明者： 佐々木 浩司 ,  田中 貞雄 ,  簗嶋 克典 ,  成井 啓修 ,  目々澤 聡彦
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-322007
公開番号（公開出願番号）：特開2004-158268
出願日： 2002年11月06日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：

【課題】マスクを基板の一主面側に固定して成膜を行うための成膜装置であって、マスクを基板から剥がす際に要する力が小さく、マスクの着脱が容易である成膜装置を提供する。【解決手段】基板保持手段11と、基板保持手段11に固定保持される基板Wの一主面側に開口パターンを有するマスクMを固定するマスク固定手段とを備え、マスク固定手段により固定されたマスクを介して基板Wの一主面上に成膜を行う際に用いる成膜装置であって、基板保持手段11における基板支持面11aが凸状に湾曲していることを特徴とする成膜装置である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板保持手段と、当該基板保持手段に固定保持される基板の一主面側に開口パターンを有するマスクを固定するマスク固定手段とを備え、当該マスク固定手段により固定されたマスクを介して基板の一主面上に成膜を行う際に用いる成膜装置であって、 前記基板保持手段における基板支持面が凸状に湾曲している ことを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：

H05B33/10 ,  C23C14/50 ,  H05B33/14

FI (3件)：

H05B33/10 ,  C23C14/50 F ,  H05B33/14 A

Fターム (13件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029DB17 ,  4K029HA04 ,  4K029JA05