特許

J-GLOBAL ID：200903054139391657

投影露光装置

発明者： 白石 直正
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-089338
公開番号（公開出願番号）：特開平7-297110
出願日： 1994年04月27日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：

【要約】【目的】 小型且つ廉価な照明光学系を用いて、近接格子法を適用した場合に、従来の特殊絞りを使用するSHRINC法と同等の結像性能を得る。【構成】 照明光学系(1〜14)からの照明光が位相型の回折格子PGに入射し、回折格子PGから発生した±1次回折光、±3次回折光、...が多層膜フィルタよりなる光束選択部材LSに入射し、光束選択部材LSで選択された±1次回折光がレチクルRを照明する。その±1次回折光のもとでレチクルRのパターン像が投影光学系PLを介して、ウエハW上に高い解像度、且つ深い焦点深度で転写される。

請求項（抜粋）：

転写用のパターンが形成されたマスクを照明光で照明する照明光学系と、前記マスクのパターンの像を感光基板上に結像投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記マスクと前記照明光学系との間に、前記マスクから所定間隔だけ離して配置され、前記照明光を偏向させる偏向部材と、前記マスクと前記偏向部材との間に配置され、前記偏向部材から射出された光束の内、前記マスクをそのまま通過した後、前記投影光学系の瞳を通過する角度範囲内にある光束のみを選択的に前記マスクに導く光束選択部材と、を有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/54 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 527 ,  H01L 21/30 515 D