特許

J-GLOBAL ID：200903054154936554

走査型X線顕微鏡

発明者： 二宮 健 ,  長谷川 正樹 ,  米山 明男 ,  山本 健一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-215673
公開番号（公開出願番号）：特開平9-061600
出願日： 1995年08月24日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：

【要約】【目的】 ウエハレベル、ディスクレベルの大きさの領域において、高空間分解能で化学状態を分析できる走査型X線顕微鏡を提供する。【構成】 試料6を微動ステージ7上に設置し、微動ステージ7を粗動ステージ8上に設置する。光学素子3を用いてX線5を試料6に集光、照射しながら上記ステージを走査し、発生した光電子を検出して試料6表面の化学状態を画像化する。【効果】 高精度走査が可能な微動ステージと、広範囲走査が可能な粗動ステージとを組み合わせた試料ステージを用いることにより、X線マイクロビームで広範囲、高精度で試料面を走査できる。この結果、10mm角以上の大領域全域にわたり化学状態を高空間分解能で分析できる。

請求項（抜粋）：

X線の発生手段、X線マイクロビームの形成手段、X線マイクロビーム照射により試料表面から発生する粒子の検出手段もしくは試料を透過したX線マイクロビーム強度の測定手段とから構成され、試料上でのX線マイクロビーム走査により試料の化学状態分布を観察する走査型X線顕微鏡において、走査範囲と走査ステップ幅の異なる複数のステージから構成される試料ステージと試料ステージの制御手段を設けた走査型X線顕微鏡。