特許
J-GLOBAL ID：200903054155997654
薄膜素子アレイおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-228905
公開番号（公開出願番号）：特開平9-074203
出願日： 1995年09月06日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：
【要約】【課題】 反射率が高く、画質が低下する。【解決手段】 基板1上に遮光膜を兼ねた蓄積容量配線3をパターニングする。蓄積容量配線3の表面を陽極酸化し蓄積容量配線3からの反射光を低減する蓄積容量配線被服膜3aを形成する。ソース配線7およびドレイン配線8などを基板1上にパターニングする。これにより、低抵抗なAl系金属を配線および遮光膜の一部に用いても、高開口率化と低反射化を同時に満足する薄膜素子アレイを提供できる。
請求項（抜粋）：
遮光膜を兼ねた金属配線を有する薄膜素子アレイであって、前記金属配線上にその金属配線からの反射光を低減する被覆膜が形成されていることを特徴とする薄膜素子アレイ。
IPC (5件)：
H01L 29/786
, G02F 1/1333 500
, G02F 1/1343
, G02F 1/136 500
, H01L 21/316
H01L 29/78 612 C
, G02F 1/1333 500
, G02F 1/1343
, G02F 1/136 500
, H01L 21/316 T
, H01L 29/78 619 B
