特許

J-GLOBAL ID：200903054168894560

レーザ描画装置

発明者： 水野 雄次
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-274458
公開番号（公開出願番号）：特開2002-082446
出願日： 2000年09月11日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：

【要約】【課題】 描画室内の雰囲気の温湿度を所定の範囲内に高精度に制御でき、描画精度を向上させることができるレーザ描画装置を提供する。【解決手段】 レーザ描画を受ける被描画物としての感光性フィルムFが収納された第1収納トレイ1と、この第1収納トレイ1から取り出された感光性フィルムFにレーザ光を走査して所定のパターンを描画する描画処理部2とを、外装カバー4で囲うようにして形成された描画室5を有するレーザ描画装置において、温湿度を所定の範囲内に制御した空気を描画室5内に供給する空調ユニット6を備える。

請求項（抜粋）：

レーザ描画を受ける被描画物が収納された収納部と、前記収納部から取り出された被描画物にレーザ光を走査して所定のパターンを描画する描画処理部とを、遮光壁で囲うようにして形成された描画室を有するレーザ描画装置において、温湿度を所定の範囲内に制御した空気を前記描画室内に供給する空調手段を備えていることを特徴とするレーザ描画装置。

IPC (4件)：

G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 501 ,  B44C 1/22 ,  B44C 5/08

FI (4件)：

G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 501 ,  B44C 1/22 B ,  B44C 5/08 Z

Fターム (4件)：

2H097BA02 ,  2H097BA04 ,  2H097CA17 ,  2H097LA09

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 露光装置の環境条件制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-014420   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-225567   出願人：株式会社リコー
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-135934   出願人：株式会社荏原製作所