特許
J-GLOBAL ID：200903054170996788
形状測定方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-234738
公開番号（公開出願番号）：特開2001-059714
出願日： 1999年08月20日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：
【要約】【課題】 波長走査法において位相検出法を有効に取り入れることが可能であり高精度な形状測定を可能にする形状測定方法及び装置を提供する。【解決手段】 中心波長(λ0)において少なくとも3個の所定の位相シフト値を設定し、走査波長(λ)における少なくとも3個の所定の位相シフト値については、走査波長が中心波長に等しいと近似して中心波長における所定の位相シフト値が走査波長における位相シフト値に相当すると近似し、走査波長毎に、照射光(6)または参照光(7)をの所定の位相シフト値だけ位相シフトし、位相シフト値毎に干渉縞強度分布(I(x,y,Δλ))を求め、求めた干渉縞強度分布の組から干渉強度成分における光路差に基づく干渉位相値(φ(x,y,Δλ))を求め、走査波長と中心波長における干渉位相値との差である位相差量(Δφ(x,y,Δλ))と波長シフト量(Δλ)とから、波長シフト量と位相差量との比である波長位相比を求め、波長位相比から被測定物の形状を測定することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
波長走査可能な光源から出射される光ビームを被測定物に照射する照射光と基準となる参照光に分離し、前記照射光を被測定物に照射して生成される物体光と前記参照光とを光電面上に重ねて光電検出し、前記照射光と前記参照光との光路差に依存する背景強度成分と干渉強度成分とからなる干渉縞強度分布を求め、被測定物の形状を測定する形状測定方法において、所定の波長走査幅内において、ほぼ波長中心となる中心波長を設定し、この中心波長から所定の波長シフト量だけ波長シフトした種々の走査波長を設定し、前記中心波長において少なくとも3個の所定の位相シフト値を設定し、前記走査波長における少なくとも3個の所定の位相シフト値については、前記走査波長が前記中心波長に等しいと近似して前記中心波長における前記の所定の位相シフト値が前記走査波長における位相シフト値に相当すると近似し、前記走査波長毎に、前記照射光または前記参照光を前記の所定の位相シフト値だけ位相シフトし、前記位相シフト値毎に前記干渉縞強度分布を求め、求めた前記干渉縞強度分布の組から前記干渉強度成分における光路差に基づく干渉位相値を求め、各々の前記走査波長における前記干渉位相値と前記中心波長における前記干渉位相値との差である位相差量と前記波長シフト量とから、前記波長シフト量と前記位相差量との比である波長位相比を求め、前記波長位相比から被測定物の形状を測定することを特徴とする形状測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (29件)：
2F064AA09
, 2F064BB07
, 2F064CC04
, 2F064EE01
, 2F064FF02
, 2F064FF05
, 2F064FF08
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG32
, 2F064GG51
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2F064JJ00
, 2F064JJ01
, 2F065AA49
, 2F065AA54
, 2F065DD03
, 2F065FF52
, 2F065GG06
, 2F065GG22
, 2F065GG25
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL12
, 2F065LL32
, 2F065LL46
, 2F065QQ00
, 2F065QQ18
